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南亚科技股份有限公司《形成刻蝕掩膜的方法》由新创友代理成功获得发明专利权

   据2015年6月17日中国发明专利公报,南亚科技股份有限公司《形成刻蝕掩膜的方法》由新创友代理成功获得发明专利权。

   本发明公开了一种形成刻蚀掩膜的方法,其包含:提供一基材,其上具有一待刻蚀的材料层;于所述材料层上形成一硬掩膜层,所述硬掩膜层包含有一对辐射敏感的单层阻材;将所述硬掩膜层暴照在一光化能下,以改变所述硬掩膜层受暴区域的溶剂可溶性;以及对所述硬掩膜层进行一水洗处理以去除所述硬掩膜层的受暴区域,藉以形成一由所述硬掩膜层的未受暴区域构成的掩膜图形。

   

   新创友,发明专利代理专家,

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