据2016年8月25日中国发明专利公报，南亚科技股份有限公司 《用于光刻工艺的掩膜及其制成的图形》由新创友代理成功获得发明专利权。
本发明公开了一种城垛状保护结构或周围式保护性掩膜，用以在半导体装置中形成交错式字线图形。此设计能将相邻的数据线彼此偏移，如此每一数据线末端会具有较大面积来设置接触插塞。
新创友，发明专利代理专家，
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