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南亚科技股份有限公司《接触孔的制作方法》由新创友代理成功获得发明专利权

   据2016年7月14日中国发明专利公报,南亚科技股份有限公司 《接触孔的制作方法》由新创友代理成功获得发明专利权。

   本发明公开了一种接触孔的制作方法。首先提供衬底,衬底上包括层间介质层;在层间介质层上形成抗反射层;在抗反射层上涂布光刻胶层;进行光刻工艺,在光刻胶层中形成第一开口;进行第一次干蚀刻工艺,经由所述第一开口蚀刻抗反射层及层间介质层,形成具有第一深度的沟槽;将所述光刻胶层中的第一开口缩小成为第二开口;以及进行第二次干蚀刻工艺,经由所述第二开口蚀刻所述层间介质层,形成具有第二深度的通孔。优点在于:仅需要进行单次的光刻工艺,配合一次的RELACS光刻胶扩大以及两次干蚀刻工艺,就可以形成接触孔,因此步骤上较为简单,而且省略了一道光掩膜,成本因此降低许多。

   

   新创友,发明专利代理专家,

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